Samsung представила технологію виробництва чіпів 17lpv — гібрид 14 — і 28-нм техпроцесів

10

Компанія samsung анонсувала новий 17-нм техпроцес, призначений для виробництва продуктів, які зараз виробляються з використанням планарного 28-нм техпроцесу, але могли б отримати певні переваги при переході на 14-нм техпроцес finfet. Все ж, велика частина напівпровідникової продукції зараз випускається по аж ніяк не самим передовим техпроцесам, і samsung пропонує їм можливість поліпшення.

Джерело: anandtech.com

При розробці напівпровідникових компонентів завжди враховуються проектні норми. Тому не можна просто так почати виробляти компоненти, розроблені під 28-нм техпроцес на більш сучасних 14-нм лініях, так як на них застосовується абсолютно різний підхід до формування мікросхем, не кажучи вже про відмінності в конструкції самих транзисторів.

При виробництві враховуються два або три основних сегменти. Виробництво починається з етапу front-end-of-line — feol) — формування активних частин кристала. Коли говорять про передові технології, мається на увазі саме feol, на якому реалізуються найбільш досконалі засоби створення кремнієвих елементів. Далі слід етап back-end-of-line — beol) — формування межсоединений і допоміжних підключень. Іноді говорять про проміжний етап middle-end-of-line( meol), на якому формуються крихітні металеві структури, які підключаються до ліній beol.

При описі технологій, наприклад, 28 нм, передбачаються проектні норми для обох етапів — feol і beol. Але в окремих випадках виробники об’єднують одні проектні норми feol з іншими beol, щоб створити лінійку продуктів з деякими особливостями обох сегментів. Саме так була реалізована нова 17-нм технологія 17lpv( low power value), анонсована в рамках заходу samsung foundry forum.

Джерело: samsung.com

Технологія 17lpv об’єднує 14-нм feol (і, відповідно, 14-нм finfet-транзистори) з межсоединениями 28-нм beol. Це означає, що за додаткову плату замовники можуть отримати переваги продуктивності і енергоспоживання технології finfet без додаткових витрат на більш щільні beol. Як уточнила компанія samsung, технологія 17lpv забезпечує зменшення площі компонента на 43 %, збільшення продуктивності на 39% або підвищення енергоефективності на 49% в порівнянні з 28-нм аналогами.

На практиці рішення на основі 17lpv зможуть використовуватися, наприклад, в сигнальних процесорах обробки зображення з камери, де не потрібна максимальна щільність елементів. Крім того, samsung буде використовувати технологію при виробництві дисплеїв — на компонентах високої напруги.

Samsung також представила технологію 14lpu (low power ultimate) схожого призначення і, ймовірно, архітектури, яка буде застосовуватися у вбудованих mram і мікроконтролерах. Компанія поки не стала уточнювати термінів впровадження нових рішень, проте представники samsung foundry назвали дані технології «зміною парадигми» для компанії, яка дозволить удосконалити спеціалізовані компоненти.